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產(chǎn)品特色
．可設(shè)置4組Sputter，建構(gòu)非平衡磁控濺射系統(tǒng)(UBM)，也可做為高階裝飾鍍膜設(shè)備。
．整合PVD(UBM)及PECVD系統(tǒng)技術(shù)，可以制備Me/DLC復合鍍層。濺射系統(tǒng)可制備碳氮化膜具致密且及具韌性之柱狀結(jié)構(gòu),作為PECVD DLC前之應(yīng)力緩沖層，加強了附著性及耐沖擊性，可制備1~5μm。
．可應(yīng)用于(非鐵金屬)沖棒、吹瓶模具、汽機車引擎內(nèi)零件、耐沖擊磨耗之零件。
．可制備：TiN、CrN、AlCrN、ZrN、AlTiN、WCC、Me/DLC等。
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